2026年3月18日-20日，為期三天的2026慕尼黑上海光博會于上海新國際博覽中心圓滿落幕。CIF攜核心技術、系列產品及綜合解決方案亮相本次行業盛會，與光電領域的科研機構、企業同仁及專業人士深入交流，精準對接行業需求，積累合作資源，圓滿完成本次參展工作。

   展會同期舉辦 “Light激光與傳感技術國際會議”“光學技術大會” 兩大高規格專業會議，聚焦激光技術、傳感技術、計算光學成像、激光雷達、半導體光學應用等前沿領域與熱點議題，為行業搭建了技術交流、成果展示與商貿合作的優質專業平臺。

   CIF展臺集中展示了等離子清洗機、大型等離子清洗機、紫外臭氧清洗機、離子濺射鍍膜儀、烤膠機、勻膠機、去膠機、刻蝕機等全系列核心設備，以及適配光電、半導體、智能制造等多領域的定制化應用解決方案。

憑借扎實的技術積淀、穩定的設備性能與貼合行業實際的應用設計，吸引了眾多 專業觀眾與行業伙伴前來咨詢交流。圍繞各設備的技術參數、核心優勢、應用落地場景及整體解決方案等核心內容，與到訪者進行專業、細致的溝通，為后續合作推進奠定了良好基礎。

   通過多維度的交流學習，團隊及時捕捉光電領域技術創新方向與市場發展動態，尤其對核心制程設備在半導體、新型顯示、智能汽車等場景的應用趨勢形成更清晰的認知，為企業后續設備技術升級、產品迭代與市場布局積累了寶貴的行業參考依據。

   未來，CIF將持續深耕光電、半導體等核心領域，以技術創新為核心發展動力，不斷優化等離子清洗、鍍膜、微納加工等系列設備性能，完善多場景應用解決方案，持續加強與行業各界的交流合作，依托自身設備技術優勢助力光電產業高質量發展，與行業伙伴攜手探索行業新機遇，共啟產業發展新征程。