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CIF專注材料表面處理技術,為客戶提供專業清洗、去膠、刻蝕、涂層等方面儀器裝備和應用工藝解決方案!等離子去膠機又稱等離子體刻蝕去膠機,是半導體制造、微電子封裝、PCB加工等電子制造領域的核心工藝設備,主要用于去除工件表面的光刻膠、有機物雜質、氧化層等污染物,通過等離子體的物理轟擊與化學反應雙重作用,實現工件表面的高效、精準、無損傷清潔,為后續鍍膜、焊接、鍵合等工藝提供潔凈的表面基礎。
等離子表面處理儀是利用等離子體技術對材料表面進行改性的先進設備。等離子體,作為物質的第四種狀態,它由高速運動的電子、激活狀態的中性原子、離子和自由基組成,在特定的壓力和能量供給條件下由氣體轉化而來。
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